• Модель:
    378-868-5
  • Артикул:
    378-868-5
  • Abkürzungen in der Tabelle:
    N.A.: Numerische AperturW.D.: ArbeitsabstandP.D.: Parfokaler Abstandf: BrennweiteR: AuflösungsvermögenD.F.: SchärfentiefeSichtfeld 1: Reales Sichtfeld mit Okular ø 24 mmSichtfeld 2: Reales Sichtfeld mit 1/2"-Sensor
  • Arbeitsabstand:
    25,5 mm
  • Beobachtung/Interferometer:
    Beobachtung
  • D.F.:
    1,6 µm
  • Endlich/Unendlich:
    Unendlich
  • f:
    4 mm
  • Gewicht:
    375 g
  • Glaskompensation:
    Nein
  • Hellfeld-/Dunkelfeldmikroskopie:
    Hellfeld
  • Hochauflösend:
    Nein
  • Korrigierte Wellenlänge:
    420 - 1064 nm
  • Laseranwendung:
    Nein
  • M Plan Apo NIR:
    Hinweis:Diese Objektive wurden entwickelt, um einen gleichbleibenden Arbeitsabstand über einen weiten Wellenlängenbereich (480 - 1800 nm) zu gewährleisten.Die M Plan NIR-Serie ist daher bestens für Laseranwendungen geeignet. Bei Wellenlängen über 1100 nm kann die Fokusposition jedoch aufgrund von Variation der Glasdispersion und des Brechungsindex leicht von der im sichtbaren Licht abweichen.
  • M Plan Apo NIR B:
    Anmerkung:Diese Objektivserie bietet eine stark verbesserte Handhabung, da ein sehr großer Arbeitsabstand von 25,5 mm erreicht wurde, während die N.A. der NIR-Serie 20X/50X beibehalten wurde.
  • Modell:
    M Plan Apo NIR B 50X
  • N.A.:
    0,42
  • P.D.:
    95 mm
  • R:
    0,7 µm
  • Sichtfeld 1:
    ø0,48 mm
  • Sichtfeld 2:
    0,24 x 0,13 mm
  • Spektraler Bereich:
    NIR
  • Vergrößerung:
    50x
121 160 грн.
Есть в наличии
M Plan Apo NIR B-Objektive
  • Unendlich korrigiert
  • Geeignet für Hellfeldmikroskopie und Laseranwendungen
  • Langer Arbeitsabstand (25,5 mm)
  • Hochwertige plan‑apochromatische Optik
  • Wellenlängenkorrektur vom sichtbaren Bereich bis in den nahen Infrarotbereich (420–1064 nm)
378-868-5.eps

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